岗位定位 面向半导体光罩制造及先进光刻工艺领域，负责光罩清洗系统的核心技术开发、设备结构优化及工艺应用推进，能够结合产线需求与缺陷控制要求，主导设备从方案设计到性能持续优化的全过程。 ・主要职责（包括但不限于） 1、负责光罩清洗设备整机系统的技术开发、结构方案设计与迭代优化。 2、围绕光罩核心指标，提出设备升级路线与技术改进方向。 3、开发解决清洗过程中的关键技术问题。 3、参与关键部件的开发及技术评审，指导内部团队完成工程落地与性能验证。"

1、本科以上学历； 2、国内SUSS（苏斯）、常州瑞择人员（熟悉mask高端光罩清洗机）优先 3、合作形式不限：全职、顾问兼职都可。