岗位职责 1负责光刻胶配方设计与开发，满足分辨率、敏感度、线宽粗糙度（LWR）等关 键指标。 2.开发新型光刻胶材料，适应先进制程需求。 3.设计光刻胶涂布、曝光、显影等工艺实验，分析光刻胶在晶圆/面板上的成像 性能。 4.解决光刻胶在客户端的应用问题（如残胶、剥离不良、CD偏移等），提供工艺 优化方案。 5.分析客户应用反馈，调整配方及工艺参数以满足需求。 6 协助生产部门完成光刻胶的产业化转化，确保产品稳定性和良率。 7.跟踪半导体/显示行业光刻技术趋势，提出材料创新方向。

任职要求 1.硕士及以上学历，化学、材料科学、高分子、应用化学等相关专业。 2.有 5年及以上光刻胶研发经验。 在PSPI方向有3年以上研发对接经验。 3.熟悉光刻胶组成及作用机理，掌握光刻工艺全流程。 4.完成过光刻胶从实验室开发到客户验证的全流程者更佳。 5. 良好的团队协作与沟通能力，英语读写能力