1.系统需求与架构定义：​​ （1）主导将市场和客户需求（如关键尺寸、深宽比、产能）转化为精确、可量化的HDPCVD设备系统级性能指标； （2）主导HDPCVD系统架构设计，定义高密度等离子体源、反应腔与温控系统、气体输送系统、真空系统、软件控制等子系统的功能、性能及接口规范。 2.跨学科集成与验证：​​ （1）作为技术协调核心，与机械、电气、软件和工艺团队紧密协作，确保各子系统设计符合整体架构要求，特别是等离子体源与反应腔的匹配、气流与温度场的均匀性； （2）制定系统集成与验证计划，领导整机集成、调试和验证，确保系统级性能（如晶圆内/晶圆间均匀性、缺陷密度、UPH）全面达标； （3）领导解决跨学科的复杂系统性问题（如颗粒超标、均匀性差、薄膜应力异常），运用系统化方法进行根本原因分析并推动设计改进。 3.产品化与客户支持：​​ （1）对从工程样机到量产产品的系统性能负责，确保设计可制造、可维护、高可靠； （2）支持新设备在客户端的验收和复杂应用问题的解决，并将“客户之声”有效反馈至研发，驱动产品迭代。

1.学历专业：本科及以上学历，本科及以上学历，机械工程、真空技术、流体力学、材料科学等相关专业； 2.工作经验： （1）具备8寸及以上腔体式HDPCVD或PECVD设备整机开发经验，独立带领团队开发过半导体集群式HDPCVD或PECVD设备； （2）精通HDPCVD或PECVD设备结构原理，深入掌握等离子体激发与维持机制、气相化学反应动力学、真空系统密封与检漏等核心技术； （3）具备设备硬件改进能力，熟悉反应腔内壁涂层优化、气体喷淋头设计等关键单元的升级方法。 （4）具备丰富的集群式设备开发经验。